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本发明的目的在于，提供一种聚有机硅氧烷固化物膜、其用途以及制造方法，所述聚有机硅氧烷固化物膜可薄膜化，膜的表面和内部的缺陷的个数极少，示出相对于荷电压高的介质击穿强度。本发明的聚有机硅氧烷固化物膜的平均厚度在1～200μm的范围内，所述聚有机硅氧烷固化物膜在膜的任意部位中以15mm×15mm为单位面积的范围内使用光学单元测定其表面缺陷的个数的情况下，表面缺陷的个数优选为0～1个的范围，内部缺陷的个数优选为0～20个的范围。这样的膜可以在净化间等中通过压制工序来得到，此外，也可以通过在具备适当的剥
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112673056 A
(43)申请公布日 2021.04.16
(21)申请号 201980054220.3 (74)专利代理机构 上海专利商标事务所有限公
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