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一种微阵列底板及其制备方法.pdfVIP

一种微阵列底板及其制备方法.pdf

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    本申请提供了一种微阵列底板及其制备方法，该方法包括：通过光刻法在器皿上制备微阵列区域，所述微阵列区域中包括多个微坑；对所述微阵列区域进行固化，形成模具，所述模具为带有凸起的微阵列；通过所述模具制作亲疏水相间的第一微阵列底板，所述第一微阵列底板中包括亲水区和疏水区，所述亲水区中包括羟基。上述技术方案可以减小亲水点阵的直径，提高合成密度，支撑较大数量寡核苷酸的合成。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112705278 B (45)授权公告日 2022.08.19 (21)申请号 201911017320.7 (56)对比文件 (22)申请日 2019.10.24

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