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本发明公开了一种工业封装用超高阻隔薄膜及其制备方法，该薄膜以聚酯类柔性衬底为基底层，在基底层上沉积有若干层丙烯酸酯层、若干层金属纳米层和若干层陶瓷阻隔层；所述若干层丙烯酸酯层、若干层金属纳米层和若干层陶瓷阻隔层为交替层叠；所述丙烯酸酯层是通过湿法涂布制备而成；所述金属纳米层是通过磁控溅射制备而成；所述陶瓷阻隔层通过PECVD技术制备而成；本发明能够获得均匀、结合力强，且具有良好的防水、防氧化效果的薄膜。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112724444 A
(43)申请公布日 2021.04.30
(21)申请号 202011464132.1 C08L 69/00 (2006.01)
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