一种适用半导体领域的光刻胶剥离液及制备方法.pdfVIP

一种适用半导体领域的光刻胶剥离液及制备方法.pdf

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本发明公开了一种适用半导体领域的光刻胶剥离液及制备方法，包括季铵化合物、有机醇胺、极性有机溶剂以及去离子水；以重量百分比计，包括季铵化合物0.5‑20％、有机醇胺1‑40％、极性有机溶剂20‑95％、去离子水1‑50％。本发明稳定性好、去胶效果好，不会对砷化镓等基底产生腐蚀。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112711176 A (43)申请公布日 2021.04.27 (21)申请号 202011496711.4 (22)申请日 2020.12.17 (71)申请人芯越微电子材料（嘉兴）有限公司

知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来，知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作，经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。

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