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本发明公开了一种单层膜结构的高稳定性触摸屏制作方法，包括以下步骤：选取基板、基板加工处理、金属网面制作、金属网面加工、电镀覆膜、单层膜加工、基板二次处理、粘接柔性电路板以及触摸屏组装，先选取合适基板并进行加工处理，然后在基板表面涂抹含碳溶液获得含碳层，将具有含碳层的基板进行镀铜处理获得金属网面，再通过电镀覆膜将ITO导电薄膜组装到基板表面，并对基板进行二次处理，利用氢氟酸混合液对其进行减薄处理，获得减薄后的基板，接着粘接柔性电路板并进行电测以及质检，最后与终端产品模组组装，利用含碳层镀铜制取金属
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112698752 A
(43)申请公布日 2021.04.23
(21)申请号 202011636476.6
(22)申请日 2020.12.31
(71)申请人 深圳市中光电发展集团有限公司
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