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本公开提供了一种坩埚及其制备方法以及硅酸钇镥晶体的制备方法。坩埚包括周壁和底壁,周壁从底壁的周边向上突出,周壁和底壁均具有贯通其壁厚的毛细管道。坩埚的制备方法包括:将不同粒径的坩埚材料的粉料混匀;冷等静压预成型后,惰性气氛预烧结;中频感应下烧结。硅酸钇镥晶体的制备方法:将所述坩埚放入周壁和底壁均为实心的大坩埚内,坩埚的底壁和大坩埚的底壁间隔开,在坩埚内外放置不同浓度的制备(LuxY1‑x)2SiO5的原料,坩埚内的原料的钇组分含量高于坩埚外的原料的钇组分含量,坩埚1内外放置的原料的浓度设定为以(
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112725882 A
(43)申请公布日 2021.04.30
(21)申请号 202011510733.1 B22F 3/10 (2006.01)
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