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本发明为一种振打自清洁沉淀装置,该振打自清洁沉淀装置包括沉淀池和填料框架,所述填料框架能活动地设置于所述沉淀池内,所述填料框架内填充有填料,所述填料框架上设置有检测所述填料框架位移信息的位移传感器和能带动所述填料框架在所述沉淀池内发生振动的至少一个振打器。本发明解决了沉淀池内的填料易被污堵且不易发现,造成填料净水能力下降、使用周期缩短的技术问题。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112742074 A
(43)申请公布日 2021.05.04
(21)申请号 202110030336.2
(22)申请日 2021.01.11
(71)申请人 中冶京诚工程技术有限公司
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