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光学临近效应的修正方法.pdfVIP

光学临近效应的修正方法.pdf

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    本发明提供一种光学临近效应的修正方法，其包括：提供至少一组特征图形数据，所述特征图形数据对应特征图形；依据所述特征图形数据在光罩上制作检测图形；将所述检测图形与所述特征图形进行比较，并根据比较结果得到所述光罩的制作能力；依据所述光罩的制作能力进行光学临近效应修正。本发明的优点在于，在光学临近效应的修正中考虑到光罩的制作能力，进而提高光学临近效应的修正精度。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112764307 A (43)申请公布日 2021.05.07 (21)申请号 20191

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