一种自对准像素定义层结构及其加工方法.pdfVIP

一种自对准像素定义层结构及其加工方法.pdf

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本发明公开了一种自对准像素定义层结构及其加工方法，具有：衬底；阳极，衬底上设有一系列的阳极，相邻阳极之间有间隙；像素定义层，填充相邻阳极之间的间隙；像素定义层的侧壁与阳极的侧壁平齐；像素定义层通过干刻成型，不占用阳极区域，不影响开口面积，有利于提高发光亮度；节省一道光刻工艺，工艺更简单，成本更低。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112750889 A (43)申请公布日 2021.05.04 (21)申请号 202110239350.3 (22)申请日 2021.03.04 (71)申请人安徽熙泰智能科技有限公司

知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来，知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作，经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。

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