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本发明公开了一种多结构体化学机械抛光垫、制造方法及其应用,包括:主结构体,表面改性的次级结构体,保护结构体以及将主结构体与表面改性的次级结构体粘接起来的上连接体,和将表面改性的次级结构体与保护结构体粘接起来的下连接体。本发明表面改性的次级结构体具有优异的断裂伸长率、拉伸强度等力学性能,其厚度也更为均匀,且与连接体的粘接剥离强度更为优异,使得由所述表面改性的次级结构体制成的化学机械抛光垫的组合性能更佳。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112757153 B
(45)授权公告日 2022.07.12
(21)申请号 202110257516.4 B32B 37/10 (2006.01)
(22)申请日 2021
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