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本发明公开了一种超结器件,超结结构形成于第一N型外延层表面上方,超结单元的顶部位置上的P型柱的宽度小于N型柱的宽度且步进不变;N型柱由填充于沟槽中的第二N型外延层组成,P型柱由沟槽之间的第一P型外延层组成,第一P型外延层形成于第一N型外延层上;沟槽穿过第一P型外延层且底部和第一N型外延层接触;超结单元中P型柱的P型杂质总量和N型柱的N型杂质总量相匹配,P型柱的掺杂浓度高于N型柱的掺杂浓度。本发明还公开了一种超结器件的制造方法。本发明能降低工艺控制难度,同时还能提高器件的一致性;沟槽倾斜时,还能降
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112768522 A
(43)申请公布日
2021.05.07
(21)申请号 20191
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