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本发明提供一种三维存储器的制造方法、三维存储器及光罩,在本发明所提供的三维存储器的制造方法中,形成的虚拟沟道孔在衬底上的垂直投影形状具有倾向性,最终刻蚀得到的虚拟沟道孔在衬底上的垂直投影形状不再是沿着各个方向均匀分布的圆形,而是具有一定倾向性的椭圆或者接近椭圆的形状,增加了虚拟沟道孔和后续形成的接触孔之间套刻偏移量的窗口间距,降低了二者间重叠合并的风险,使得后续形成的插塞几乎不会沿着虚拟沟道结构钻到下面造成栅极层的泄露,从而增强了三维存储器的结构稳定性和电学性能。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112786610 A
(43)申请公布日 2021.05.11
(21)申请号 202110083408.X
(22)申请日 2021.01.21
(71)申请人 长江存储科技有限责任公司
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