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我们公开了一种集成电路设计工具,用于对诸如栅极、源极、漏极和过孔之类的晶体管的端子的电阻进行建模。使用三维(3D)坐标系在存储器中的数据结构中指定端子的结构。对于所指定的结构中的多个体积元素中的每个体积元素,Elmore延迟时间(EDT)被确定。对于位于栅极端子的面对沟道区域的表面上的多个体积元素中的那些体积元素,平均EDT(aEDT)基于EDT来被确定。端子的点对点电阻值根据aEDT和端子的电容来被生成。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112771529 B
(45)授权公告日 2022.04.29
(21)申请号 201980059905.7 (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所
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