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2023-06-06 发布于四川
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一种用于硅片消除氧施主热处理过程的冷却装置和方法.pdf

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本发明公开一种用于硅片消除氧施主热处理过程的冷却装置和方法。该冷却装置具备：冷液冷却系统，包括由数根冷水管组成的冷水管排、用于固定该冷水管排的固定装置、以及通过波纹管连接冷水管排的进水管和出水管；所述固定装置包括用于固定冷水管排不同部位的固定梁，在固定梁上装载有风速表及温湿度传感器；在进水管和出水管上分别安装有压力表、温度计，在波纹管上安装有流量计和阀门；通风系统，包括数个轴流风机以及用于机械固定轴流风机的紧固装置，轴流风机设置在冷水管排的一侧，并朝向冷水管排鼓风；控制系统，用于对冷却环境进行智

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112746330 A (43)申请公布日 2021.05.04 (21)申请号 202011596433.X (22)申请日 2020.12.29 (71)申请人有研

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