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本发明公开了一种聚焦环、等离子体处理器及方法,等离子体处理器包含一反应腔,反应腔内设置一静电吸盘,用于支撑基片,所述聚焦环环绕设置在所述静电吸盘的外围,通过热交换以实现温度可调的聚焦环包括位于基片下方的内侧区域和环绕内侧区域的外侧区域,内侧区域上方设置一热传导部件,当基片被静电吸盘吸附时,基片的背面与热传导部件相接触。本发明通过在聚焦环内或聚焦环与插入环之间或插入环内部或其他相应位置开设冷却通道,供冷却液流动用以对聚焦环进行降温,同时还在基片和聚焦环之间设置热传导部件,通过热传导以增强聚焦环和基
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112786422 A
(43)申请公布日
2021.05.11
(21)申请号 20191
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