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在本发明的实施方式中公开了一种基板处理装置,在所述基板处理装置中用于对准基板和掩模的对准组件的一个表面与真空腔室的本体一体地形成。因此,提供了一种对准组件,所述对准组件包括与用于形成真空腔室的外表面的本体一体地形成的板,与传统组件相比,所述对准组件减少了用于基板和掩模的精细移动和对准的工作时间,从而提高了生产效率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112771688 A
(43)申请公布日 2021.05.07
(21)申请号 201980063263.8 (74)专利代理机构 北京律诚同业知识产权代理
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