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本发明涉及一种激光雕刻方法，尤其为一种高精度激光雕刻方法。解决传统激光雕刻过程存在的加工深度不均匀及激光器出光、关光响应时间对零件尺寸的影响问题。本发明在路径规划时预先考虑到载物平台的加减速时间以及激光器、IO模块的响应时间，在原有的路径上增加了减速轨迹以及出、关光响应轨迹，因此根据更新后的路径加工出的产品深度均匀性好，不存在由于脉冲重叠率太高而导致起点和终点加工深度较深、加工质量差的问题，同时考虑到激光器和IO模块的响应时间提高了尺寸加工精度。该方法特别适用于不规则图形雕刻工艺。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112756797 A
(43)申请公布日 2021.05.07
(21)申请号 202011643176.0
(22)申请日 2020.12.30
(71)申请人 中国科学院西安光学精密机械研究
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