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一种等离子体处理装置及其下电极组件、静电卡盘.pdfVIP

一种等离子体处理装置及其下电极组件、静电卡盘.pdf

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    本发明公开了一种等离子体处理装置及其下电极组件、静电卡盘，其中静电卡盘用于在等离子体处理装置的反应腔中支撑待处理基片，其包括穿过该静电卡盘上表面至下表面，用于向所述静电卡盘与待处理基片之间通入冷却气体的若干气孔；所述气孔内填塞有至少一个孔塞；所述孔塞设置有穿过该孔塞上表面至下表面的若干通孔，所述通孔的内径小于所述气孔的内径。本发明通过在静电卡盘气孔内填塞至少一个孔塞，而孔塞上布置有若干通孔，实现了在保证静电卡盘上基片的温度均匀性的情况下，进一步避免了因静电卡盘的气孔内冷却气体解离所造成的气孔内壁

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112768331 A (43)申请公布日 2021.05.07 (21)申请号 20191

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