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2023-06-06 发布于四川
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本发明提供一种图形形成方法，包括步骤：提供衬底；在所述衬底上形成图形转移层，所述图形转移层包括第一材料层和第二材料层，所述第一材料层和所述第二材料层沿平行于所述衬底的方向交替排列延伸；在所述图形转移层上形成第一图形窗口，所述第一图形窗口至少暴露出部分所述第一材料层或至少暴露出部分所述第二材料层；沿所述第一图形窗口蚀刻所述第一材料层或所述第二材料层，在所述图形转移层中形成第二图形窗口；沿所述第二图形窗口，刻蚀所述衬底，图形化所述衬底。本发明优点是，实现缩小关键尺寸的目的，简化了制备关键尺寸的工艺，

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112768351 B (45)授权公告日 2022.06.10 (21)申请号 201911075391.2 (56)对比文件 (22)申请日 2019.11.06

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