具有旋转交换双工件台的光刻装置的曝光方法.pdfVIP

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2023-06-07 发布于四川
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具有旋转交换双工件台的光刻装置的曝光方法.pdf

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本发明提供一种具有旋转交换双工件台的光刻装置的曝光方法，所述光刻装置包括曝光单元，所述曝光单元包括测量工位和曝光工位，所述测量工位执行步骤包括第一测量步骤和第二测量步骤；所述曝光工位执行步骤包括第一曝光步骤和第二曝光步骤；其中，所述第一曝光步骤包括曝光前准备、所述第一或第二工件台的对准；所述第二曝光步骤包括对所述待处理晶圆执行曝光工艺；所述第一及第二工件台并行作业，同步执行所述第一测量步骤与所述第一曝光步骤；或，同步执行所述第二测量步骤与所述第二曝光步骤，从而提高曝光精度及优化产能瓶颈。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112835271 A (43)申请公布日 2021.05.25 (21)申请号 202110067156.1 (22)申请日 2021.01.19 (71)申请人上海集成电路装备材料产业创新中

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