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一种抛光垫.pdf

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    本发明公开一种抛光垫，包括研磨层，所述研磨层包括至少两个同心圆沟槽，定义最内侧的同心圆沟槽为第一同心圆，最外侧的同心圆沟槽为第二同心圆；第一同心圆和第二同心圆界定多个研磨区域，由圆心到研磨层边缘三个研磨区的宽度依次为W1,W2,W3，本发明通过对抛光垫的不同研磨区及其沟槽的相关参数以及研磨层，缓冲层物性参数进行综合设计，使得本发明的抛光垫具有优异的综合性能。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112809550 B (45)授权公告日 2022.04.22 (21)申请号 202011617011.6 B24B 37/24 (2012.01) (22)申请日

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