- 1、本文档共28页,其中可免费阅读27页,需付费10金币后方可阅读剩余内容。
- 2、本文档内容版权归属内容提供方,所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议,可选择认领,认领后既往收益都归您。
- 3、本文档由用户上传,本站不保证质量和数量令人满意,可能有诸多瑕疵,付费之前,请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形,可联系本站下载客服投诉处理。
- 4、文档侵权举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
- 5、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
- 6、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 7、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 8、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本发明提供一种能够缓和将多张晶片并排处理时的多个晶片的面间不均匀性(负载效应)的基板处理装置,基板处理装置构成为,包括:基板保持件,其按照规定的间隔排列保持多个基板;收容基板保持件的反应管,其具备使上端闭塞的顶板,并在下方具有能够使基板保持件出入的开口;炉体,其包围该反应管的上方及侧方;盖,其直接或间接保持基板保持件,并封堵开口;以及气体供给机构,其向在反应管内保持于基板保持件的多个基板各自的表侧的面提供与表侧的面平行的气体流动,基板保持件构成为,保持形成有集成电路图案的产品基板或监控基板和在表
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112823409 A
(43)申请公布日 2021.05.18
(21)申请号 201880097988.4 (51)Int.Cl.
文档评论(0)