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本发明公开了一种X射线荧光光谱自适应本底扣除方法，涉及X射线荧光光谱分析领域。本发明利用高斯卷积核与X射线荧光光谱进行离散卷积运算并通过不断迭代，直至达到较好的本底拟合及扣除效果。本底扣除效果利用若干标样中某一特定元素在谱图中的计数峰面积与样品中的实际含量线性回归后得出的拟合优度作为标准。融合遗传优化算法，优化迭代高斯卷积滤波器中的迭代次数与高斯卷积核中高斯函数的标准差参量，以获得更好的拟合优度，从而使本底扣除效果达到最优。本发明适用于X射线荧光光谱分析。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112801936 B
(45)授权公告日 2022.07.29
(21)申请号 202011559937.4 CN 110673109 A,2020.01.10
(22)申请日 20
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