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本公开提供了一种厚尺寸红外光学材料的制备方法。其包括骤:(S1):以化学气相沉积法获得的红外光学材料为基板,研磨抛光;(S2):对基板进行等离子清洗;(S3):将基板放置于化学气相沉积炉的沉积室,向化学气相沉积炉中的坩埚内装入反应固体;(S4):对化学气相沉积炉进行抽真空;(S5):将沉积室温度缓慢升至600‑850℃之间;将坩埚的温度缓慢升至500‑800℃;(S6):分别以反应固体的蒸气、反应气体为原料,以氩气作为反应固体的蒸气和反应气体的载气通入沉积室;(S7):坩埚内的反应固体蒸发完毕,
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112813411 B
(45)授权公告日 2022.07.08
(21)申请号 202011583651.X C23C 16/56 (2006.01)
(22)申请日 2020.12
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