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一种高红外开关率的钒基氧化物薄膜的制备方法,涉及一种高红外开关率的薄膜的制备方法。本发明是要解决现有的氧化钒薄膜无法实现85%以上中红外透过率的同时保证较高红外开关率的技术问题。本发明方法结合了磁控溅射镀膜系统和后退火处理,该方法所需设备成本较低、工艺操作简单、性质稳定,可批量生产。本发明制备的钒基氧化物薄膜具有优异的红外开关性能,光开关率可达88%以上,同时保证了中波红外光区透过率可达85%以上。此种高红外开关率钒基氧化物薄膜保证了薄膜在服役过程中优异的红外透过率和优异的光开关性能,适用于智能
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112795883 B
(45)授权公告日 2021.11.26
(21)申请号 202011573076.5 C23C 14/08 (2006.01)
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