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本发明提供的提供版图及版图修改的方法中，所述版图修改的方法包括以下步骤：初始版图；改变所述初始版图的缩放比例，使得部分间隔距离至目标间隔距离，以得到变更版图；保持部分间隔距离为目标间隔距离，将所述变更版图中的第一版图单元结构和第二版图单元结构的尺寸恢复至原始尺寸，计算出所述第一版图单元结构和第二版图单元结构的坐标数据，并写回数据库中；以及根据数据库中的坐标数据生成目标版图。本发明通过软件自动修改版图，其不仅解决了现有技术中由于工艺窗口太小造成的人力和时间的浪费，使得耗费的人力和物力几乎可以忽略不
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112818625 A
(43)申请公布日 2021.05.18
(21)申请号 202110164299.4
(22)申请日 2021.02.05
(71)申请人 上海华虹宏力半导体制造有限公司
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