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基于二茂金属化合物的光刻胶及其制备方法和应用.pdfVIP

基于二茂金属化合物的光刻胶及其制备方法和应用.pdf

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    本发明属于光刻胶技术领域，具体涉及基于二茂金属化合物的光刻胶及其制备方法和应用。本发明的二茂金属化合物采用金属为中心核结构，因此具有较高的熔点和玻璃化转变温度，能够满足光刻技术要求，且结构稳定，在高温烘烤中薄膜结构无变化。此外，本发明的光刻胶组合物可以用于248nm光刻、193nm光刻、极紫外(EUV)光刻、纳米压印光刻(NIL)和电子束光刻(EBL)等现代光刻工艺中。尤其适合使用于极紫外(EUV)光刻工艺中。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112830944 B (45)授权公告日 2022.05.06 (21)申请号 201911167289.5 intramolecular charge transfer properti

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