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本公开涉及一种投影仪校正方法、系统、存储介质以及电子设备，涉及投影技术领域，该方法包括：确定投影仪相对于投影平面的偏移信息，进而根据所述偏移信息，确定原始图像投射在所述投影平面上的投影图像的二维成像顶点坐标；根据所述投影图像的二维成像顶点坐标，对所述原始图像的尺度进行校正，得到校正后的原始图像的尺度；控制所述投影仪根据校正后的原始图像的尺度进行投影。本公开的有益效果是：通过偏移信息可以对投影仪在投影过程中产生的梯形失真进行自动校正，且该校正方法能够快速、准确地确定出投影图像的二维成像顶点坐标，从
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112804507 B
(45)授权公告日 2021.08.31
(21)申请号 202110297233.2 (56)对比文件
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