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一种OVD工艺可调节沉积系统及其调节方法.pdfVIP

一种OVD工艺可调节沉积系统及其调节方法.pdf

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    本发明涉及光纤预制棒制造技术领域，具体涉及一种OVD工艺可调节沉积系统及其调节方法，该系统包括两组腔体板组件、沉积量监测装置和控制装置。其中，两组所述腔体板组件形成带有进气侧和出气侧且用于沉积光纤预制棒的腔体，每组所述腔体板组件包括至少两块转动连接的腔体板，且所述腔体板可随着所述光纤预制棒的沉积调整角度；沉积量监测装置用于监测所述光纤预制棒的沉积量；控制装置用于根据获取的沉积量调整所述腔体板的角度以调节腔体的剩余空间。本方案能够解决现有技术中在沉积初期需要投入更多的反应气体、原料，以及在导致整个

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112795900 B (45)授权公告日 2021.08.03 (21)申请号 202110313967.5 (56)对比文件

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