真空镀膜装置.pdfVIP

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本发明涉及一种真空镀膜装置,包括腔体、承载单元及至少一个导电单元,其中,腔体具有相连接的第一侧壁、第二侧壁及与第二侧壁相对设置的第三侧壁,第一侧壁连接第二侧壁及第三侧壁,第一侧壁上开设有入口,用于承载单元可移动地通过入口输送至腔体内,且包括托盘及嵌设于托盘上的多个基板;导电单元设置于第二侧壁或第三侧壁上,且在靠近入口上方一侧具有伸入至腔体内部的接触组件,接触组件可抵接于托盘上,且在抵接时电性连接,继而偏压由导电单元导入,通过托盘传递至基板上,优化基板上的镀膜质量,该真空镀膜装置结构简单,且性能稳

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112795896 A (43)申请公布日 2021.05.14 (21)申请号 202110403939.2 (22)申请日 2021.04.15 (71)申请人 苏州迈为科技股份有限公司

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