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本发明涉及一种真空镀膜装置，包括腔体、承载单元及至少一个导电单元，其中，腔体具有相连接的第一侧壁、第二侧壁及与第二侧壁相对设置的第三侧壁，第一侧壁连接第二侧壁及第三侧壁，第一侧壁上开设有入口，用于承载单元可移动地通过入口输送至腔体内，且包括托盘及嵌设于托盘上的多个基板；导电单元设置于第二侧壁或第三侧壁上，且在靠近入口上方一侧具有伸入至腔体内部的接触组件，接触组件可抵接于托盘上，且在抵接时电性连接，继而偏压由导电单元导入，通过托盘传递至基板上，优化基板上的镀膜质量，该真空镀膜装置结构简单，且性能稳
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112795896 A
(43)申请公布日 2021.05.14
(21)申请号 202110403939.2
(22)申请日 2021.04.15
(71)申请人 苏州迈为科技股份有限公司
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