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一种镀膜装置.pdfVIP

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    本公开属于镀膜技术领域，具体涉及一种镀膜装置。该装置包括多反应腔系统、传输腔系统、控制系统、气路系统、水冷系统及手套箱；其中多反应腔系统包括2个以上独立的反应腔系统，各反应腔系统分布于传输腔系统四周；手套箱与传输腔系统、传输腔系统与各反应腔之间设置有密封的过渡腔室且通过高真空插板阀实现两者的连通与关闭。所述各反应腔系统均包括真空腔体及位于真空腔体内的靶系统和载片台系统，各反应腔内的真空度控制在8*10‑5Pa以下。该装置具有多反应腔、自动化程度高、基片可快速转移、惰性气体保护气氛且转移过程中可减

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112853293 A (43)申请公布日 2021.05.28 (21)申请号 202110010669.9 (22)申请日 2021.01.06 (71)申请人 中国原子能科学研究院

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