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本发明提供了一种等微波等离子体化学气相沉积系统，属于微波技术领域。上述等离子体设备主机包括机架、真空腔基座、腔盖及升降装置；真空腔基座与机架连接，真空腔基座的中部设置有样品基片台；腔盖能够与真空基座进行密封配合。升降装置的底部与机架连接，上部与腔盖连接，升降装置能够带动腔盖上下移动。使用时，通过操作升降装置起吊或下降，从而将腔盖打开或扣合在真空腔基座上。采用上述升降装置后，其不仅提高了工作效率，还降低了操作人员的劳动强度。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112853327 B
(45)授权公告日 2021.09.24
(21)申请号 202011638435.0 C23C 16/54 (2006.01)
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