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本发明涉及有机膜形成用材料、图案形成方法、以及聚合物。本发明的课题为提供成膜性优异并能展现高的蚀刻耐性、优异的扭曲耐性、填埋特性的有机膜材料、使用了该有机膜材料的图案形成方法、及适于如此的有机膜材料的聚合物。解决该课题的手段为一种有机膜形成用材料,是有机膜形成时使用的材料,其含有具有下列通式(1)表示的重复单元的聚合物、及有机溶剂。上述通式(1)中,AR1、AR2为也可以有取代基的苯环或萘环。W1为不具有芳香环的碳数2~20的2价有机基团,构成有机基团的亚甲基也可取代为氧原子或羰基。W2为至少具
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112859516 A
(43)申请公布日 2021.05.28
(21)申请号 202011354547.3
(22)申请日 2020.11.27
(30)优先权数据
2019-2154
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