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该发明涉及一种晶圆处理设备及晶圆处理装置，能够解决晶圆的边缘关键尺寸误差较大的问题，提高晶圆生产的良率。所述晶圆处理设备设置有聚焦环放置位，以放置聚焦环，还包括限位部，外露于所述聚焦环放置位上表面设置，用于与所述聚焦环表面设置的卡槽相互配合，对所述聚焦环进行限位，所述限位部能够发生可回弹的形变，所述限位部在一水平方向上的尺寸大于卡槽在该水平方向上的尺寸。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112885734 A
(43)申请公布日
2021.06.01
(21)申请号 20191
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