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本发明公开了一种氮化镓半导体生产用的洁净厂房,包括厂房主体、净化空调系统、更衣室、净化箱、毛刷和第二过滤网,所述厂房主体内部的底端安装有净化空调系统,所述厂房主体一端的侧壁安装有更衣室,所述更衣室的顶端安装有底座,且底座的顶端安装有净化箱,所述净化箱的一端侧壁安装有进气管,且进气管远离净化箱的一端与更衣室的顶端相连接,所述净化箱远离进气管的一端侧壁安装有排气管,且排气管远离进气管的一端与更衣室的顶端相连接。该氮化镓半导体生产用的洁净厂房,通过挤压铰接杆进行往复左右移动,从而使挤压板可以带动保护垫
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112843918 A
(43)申请公布日 2021.05.28
(21)申请号 202011587330.7
(22)申请日 2020.12.29
(71)申请人 浙江中电环境科技有限公司
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