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本发明提供一种具有显著方向选择性发射率的多层薄膜结构，属于热辐射技术领域。该结构包括基底、反射层及发射层，单晶硅基底上电镀一层银薄膜或者其他金属材料薄膜作为反射层，然后在反射层上方依次电镀三层不同的电介质薄膜作为发射层，从而设计一种常温下在其光谱辐射力峰值波长附近的波带范围内具有强烈方向选择性发射率的多层薄膜结构。该多层薄膜结构简单，在保证常温物体充分向外辐射能量的同时，大幅减少了垂直界面方向的热辐射强度，在红外隐身等广泛领域重要的应用前景。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112859216 B
(45)授权公告日 2021.11.30
(21)申请号 202110058298.1 (56)对比文件
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