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通过源和掩模优化创建理想源光谱的方法.pdfVIP

通过源和掩模优化创建理想源光谱的方法.pdf

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    公开了用于增加光刻系统的焦深的系统、方法和计算机程序。在一个方面，一种方法包括提供光谱、掩模图案和光瞳设计，光谱、掩模图案和光瞳设计一起被配置成为光刻系统提供焦深。该方法还包括迭代地改变光谱和掩模图案中的辅助特征以提供增加焦深的经修改的光谱和经修改的掩模图案。该方法还包括基于增加焦深的经修改的光谱和经修改的掩模图案来配置光刻系统的部件。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112889004 A (43)申请公布日 2021.06.01 (21)申请号 201980068272.6 G ·A ·雷希特斯坦纳　 (22)申请日 201

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