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第三节 过饱和固溶体的分解;一、脱溶沉淀过程
受溶质扩散控制,
可能形成一系列介稳相
(过渡相)。;在较低温下时效的脱溶沉淀顺序:
(1)GP区:溶质原子(Cu)偏聚区,Al基体100方向弹
性模量最小,所以在{100}面上偏聚,ω≈90%,结
构与基体相同并共格,无明显界面,铜原子半径小于铝
引起共格应变。GP区形状是碟形薄片,直径约8nm
(随时效温度升高而增大),厚仅0.3~~0.6nm,均
匀分布在α基体,密度约1018个/cm3。是1938年
Guinier,A.t Preston,G.D.发现,所以称GP区,光学
显微镜无法观察,电子显微图像中的衬度,是由共格应
变导致的局部晶格畸变引起。;(2)θ``相:随时效时间延长形成,厚度2~
10nm,直径30~150nm,成分接近CuAl2,
具有正方点阵,a=b=0.404nm,c=0.78
nm。可能通过GP区溶解重新形核而生成,也
可由GP区原位转化而生成,以{100}α为惯习
面,共格盘状沉淀物,与母相取向关系:
在基体内产生弹性应变,这是导致合金强化的
重要原因。;过饱和固溶体的分解;(3)θ`相:随时效温度升高和时间延长将析
出介稳相θ`。光学显微镜下可见,具有正方点
阵a=b=0.404nm,c=0.58nm,成分近似
CuAl2,取向关系与θ``相同,与基体半共格,
优先在位错处形核。
(4)θ相:更高温度或更长时间时效得到。正
方点阵,a=b=0.606nm,c=0.487nm,与基
体非共格,优先于晶界形核。; 最大强化效果是在θ``析出阶段,当θ`大
量形成时,硬度开始下降,称过时效。;(5)回归:有些Al-Cu合金时效强化后加热到
稍高温度,低于平衡相或过渡相固溶度线,短
时间保温后迅速冷却,时效硬化效果基本消
失,硬度和塑性基本上恢复到固溶处理状态。
回归后的合金在室温长期放置将重新发生时
效。回归实质是GP区和θ``的加热回溶。利用
回归现象恢复合金的塑性,可用于冷加工变形
和修复整形。;过饱和固溶体的分解;二、沉淀方式
1、连续沉淀
沉淀过程中邻近沉淀物的母相溶质浓度连续变
化。沉淀相结构及点阵常数与母相相近时,与母相可
能形成共格或半共格界面,并与母相有一定的取向关
系,惯习面通常是基体的低指数晶面,多呈针状或条
状,相互按一定交角分???。
完全共格:孤立圆盘或立方形颗粒析出。
不共格:等轴状或球状,与母相无取向关系。
过冷度小时,沉淀相均匀形核较困难,在晶界、
位错及半共格孪晶界、滑移带等处发生局部析出。;过饱和固溶体的分解;2、不连续沉淀
饱和的α相和母相间溶质浓度不连续的沉
淀。沉淀时同时形成饱和α固溶体与β相,两
相耦合成长,与共析转变相似。通常在晶界形
核,与一侧母相保持取向关系,而与另一侧母
相不共格。在片状析出相β的两侧将出现溶质
原子贫化区,在贫化区内又可能沿母相晶界形
成新的析出相α晶核, α与 β两相交替生长,
形成类似于片状共析团的胞状物,胞状物内的
α相将因相变硬化而引起再结晶; 形核较为困难,一旦成核,生长速率很
快。因溶质原子短程扩散,非共格界面能高,
活动能力较大;3、沉淀过程中显微组织的变化; 过饱和固溶体脱溶沉淀时究竟按哪种序列
进行,取决于固溶体的成分、过饱和程度、时
效规范及时效处理前是否进行冷加变形。
4、无析出区
在母相晶界附近常出现无析出区,是因为
固溶处理时产生过饱和空位,该区空位优先进
入晶界使母相密度降低,阻碍溶质原子扩散,
导致GP区及介稳相等难以析出。可通过时效前
冷变形增加晶体缺陷,来消除无析出区。;三、脱溶沉淀热力学; 新相的形核功ΔG*对新相-母相的界面能
十分敏感,所以能成核的新相不一定是自由焓
最低的平衡相,应是ΔG*最低的相。; 介稳态GP区、θ``相、 θ`相与基体形成
共格或半共格界面,界面能较小, ΔG*随之减
小。;四、等温沉淀动力学
可用Johnson-Mehl或Avrami方程描述,
因可同时出现几种沉淀相,动力学曲线可能相
互交织,难于定量描述,只能定性讨论。;五、调幅分解
是固溶体脱溶分解的一种特殊形式,无形
核阶段,溶质成分通过上坡扩散,分解成结构
与母相相同,但成分不同的两种固溶体。
1、调幅分解的热力学条件
处于非稳态区的固溶体发生分解不存在热
力学势垒,无需形核便会以调幅分解的方式使
成分波幅不断增大;处于介稳态区的成分微量
起伏会引起系统自由焓上升,只有通过形核和
长大过程才会使系统自由焓下降。; 除热力学条件外,
发生调幅分解的另一个
条件是合金的上坡扩
散。; 富
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