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本发明提供清洁片及带清洁功能的输送构件。提供可以适合用于在基板处理装置内进行输送的输送构件的、异物去除性能、污染抑制性能及输送性能优异的清洁片。另外,提供具有这种清洁片和输送构件的、异物去除性能、污染抑制性能及输送性能优异的带清洁功能的输送构件。本发明的实施方式的清洁片具备清洁层,该清洁层在25℃下的弹性模量为200MPa~3000MPa、在25℃下的吸附力为‑1.5μN~‑0.3μN。其中,上述弹性模量及上述吸附力是利用纳米压痕仪在频率100Hz、压痕深度100nm、测定样品尺寸1.0cm×1
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112940607 A
(43)申请公布日 2021.06.11
(21)申请号 202011348785.3
(22)申请日 2020.11.26
(30)优先权数据
2019-2131
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