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本发明适用于光刻胶技术领域,提供了一种酸活性树脂以及光刻胶,所述酸活性树脂包括:极性侧链基团以及非极性侧链基团,所述极性侧链基团与所述非极性侧链基团互为衍生基团,且所述极性侧链基团与所述非极性侧链基团的原子个数之差为0~5个。本发明通过设计酸活性树脂的结构,从根本上调节酸活性树脂的极性,促使酸活性树脂的极性侧链基团与非极性侧链基团在空间结构上相近,进而使酸活性树脂具有良好的、稳定的极性‑非极性平衡,以促使制备的光刻胶膜具有良好的显影液浸润性,使光刻胶膜与衬底粘附性适中,得到尺度合适的光刻胶膜,以
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112920314 A
(43)申请公布日 2021.06.08
(21)申请号 202110102205.0
(22)申请日 2021.01.26
(71)申请人 宁波
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