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本发明公开了一种用于在晶圆上沉积薄膜的设备,其结构包括密封盖、沉积装置、控制器、检修门,密封盖嵌固在沉积装置内部上端,控制器安装于沉积装置侧面,检修门与沉积装置侧面采用合页配合,卡合板带动固定环内侧的活动块与挤压机构外侧挤压滑动,通过相对位置的改变,继而控制原料在喷洒口内的阻挡压力,达到对原料喷洒角度改变的作用,从而参照晶圆曲面的角度对喷洒角度进行调整,通过对原料喷洒压力的控制使原料沉积后较为均匀,避免产生曲翘力,贴合机构贴合在晶圆最上端水平位置的侧面,避免喷洒的原料在晶圆边缘活动,防止混乱漂浮
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112921283 A
(43)申请公布日 2021.06.08
(21)申请号 202110091514.2
(22)申请日 2021.01.23
(71)申请人 梁小明
地址 518
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