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2023-06-10 发布于四川
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一种用于在晶圆上沉积薄膜的设备.pdf

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本发明公开了一种用于在晶圆上沉积薄膜的设备，其结构包括密封盖、沉积装置、控制器、检修门，密封盖嵌固在沉积装置内部上端，控制器安装于沉积装置侧面，检修门与沉积装置侧面采用合页配合，卡合板带动固定环内侧的活动块与挤压机构外侧挤压滑动，通过相对位置的改变，继而控制原料在喷洒口内的阻挡压力，达到对原料喷洒角度改变的作用，从而参照晶圆曲面的角度对喷洒角度进行调整，通过对原料喷洒压力的控制使原料沉积后较为均匀，避免产生曲翘力，贴合机构贴合在晶圆最上端水平位置的侧面，避免喷洒的原料在晶圆边缘活动，防止混乱漂浮

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112921283 A (43)申请公布日 2021.06.08 (21)申请号 202110091514.2 (22)申请日 2021.01.23 (71)申请人梁小明地址 518

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