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本发明实施例提供一种集成电路结构的形成方法,包括:提供第一图案和待修正图案,所述第一图案包括相间隔的第一子图案和第二子图案,所述待修正图案位于所述第一子图案与所述第二子图案之间,所述第一图案与所述待修正图案之间具有预设水平距离;提供修剪掩膜,所述修剪掩膜具有预设区域,在包含所述待修正图案的平面内,所述预设区域的第一正投影与所述待修正图案重合,第二正投影位于所述待修正图案一侧,且水平长度大于等于两倍的所述预设水平距离;通过所述修剪掩膜进行曝光工艺,以形成目标图案。本发明实施例有利于准确修剪待修正图
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112951712 A
(43)申请公布日 2021.06.11
(21)申请号 202110128716.X
(22)申请日 2021.01.29
(71)申请人 长鑫存储技术有限公司
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