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一种半导体结构及其形成方法,包括:提供衬底,所述衬底上具有第一鳍部与第二鳍部,所述第一鳍部具有相对立的第一侧壁与第二侧壁,所述第二侧壁朝向所述第二鳍部,所述衬底上还具有隔离层,所述隔离层覆盖所述第一鳍部与所述第二鳍部的部分侧壁;在所述第一鳍部的第一侧壁上形成第一侧墙,在所述第一鳍部的第二侧壁上形成第二侧墙,所述第一侧墙的顶部表面高于所述第二侧墙的顶部表面;在形成所述第一侧墙与所述第二侧墙之后,刻蚀部分所述第一鳍部,形成第一鳍部开口;在所述第一鳍部开口内形成第一外延层。本发明的技术方案能够防止所述
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112951722 A
(43)申请公布日
2021.06.11
(21)申请号 20191
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