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处理放射性废水的富含氧空位的氧化钨纳米片的制备方法.pdfVIP

处理放射性废水的富含氧空位的氧化钨纳米片的制备方法.pdf

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    本发明公开了一种处理放射性废水的富含氧空位的氧化钨纳米片的制备方法，包括：将钨酸钠加入水中，搅拌溶解，然后加入还原剂，搅拌，加入盐酸溶液，再次搅拌，得到混合溶液，将混合溶液转移到高压反应釜中，然后在115～135℃下反应20～30小时，冷却至室温，沉淀经离心分离，用蒸馏水和无水乙醇洗涤数次；然后在真空烘箱中60～70℃下干燥24小时；将干燥后的固体在N2气氛下，400～550℃煅烧2～6小时，冷却至室温，得到富含氧空位的氧化钨纳米片；由于W原子对γ射线的强烈散射，WO3在放射性环境中仍保持晶体结

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112919545 B (45)授权公告日 2022.07.08 (21)申请号 202110098970.X (51)Int.Cl.

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