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本发明提供了一种电子元件晶元制备方法，其使用了电子元件晶元制备装置，该装置包括支撑架、清洗池、清洗机构以及干燥取出机构。可以解决电子元件晶元制备过程中所存在的以下难题：a.电子元件晶元长时间放置时，其表面会沾染需要灰尘和各种细小的脏物，因此在实际使用时都要提前对晶元进行清洗，确保晶元表面无灰尘和脏物，传统的清洗方式大多通过清洗箱批量化清洗，这种方式存在表面清洗不干净，晶元之间存在碰撞现象，容易对晶元表面划伤；b.目前现有的清洁装置针对单个晶元清洗时，往往对晶元进行夹持固定，然后对表面进行刷洗，存
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112916458 A
(43)申请公布日 2021.06.08
(21)申请号 202110079396.3
(22)申请日 2021.01.21
(71)申请人 任玉成
地址 210
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