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一种MIS‑HEMT器件的界面态分析方法及装置,该方法通过建立MIS‑HEMT器件的等效模型,等效模型包括用于表示介质层、势垒层和沟道层的等效电路,通过利用该等效模型能够绘制出来与实测的电容‑频率散点图和实测的电导‑频率散点图最能够拟合的一组电容‑频率函数曲线和电导‑频率函数曲线,并将该组作为拟合组函数曲线;根据该拟合组频率函数曲线所对应的一组赋值计算该MIS‑HEMT器件的界面态参数,由于通过该等效模型所拟合的拟合组频率函数曲线能够同时拟合实测的电容‑频率散点图和实测的电导‑频率散点图,使得所
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112955760 B
(45)授权公告日 2022.05.31
(21)申请号 202080005984.6 (51)Int.Cl.
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