一种二苯锍结构的光致产酸剂及其合成方法.pdfVIP

一种二苯锍结构的光致产酸剂及其合成方法.pdf

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本发明公开了一种二苯锍结构的光致产酸剂及其合成方法，涉及光刻胶领域，光致产酸剂具有以下结构：其中，A为C1‑C5的氟代烷烃；B为C3‑C10的环烷基，本发明的光致产酸剂能够控制酸扩散，减小线宽粗糙度，防止图形破坏和形成尺寸均一性的光刻图案，193nm光源下下透明度高。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112920099 A (43)申请公布日 2021.06.08 (21)申请号 202110162476.5 (22)申请日 2021.02.05 (71)申请人华衍化学（上海）有限公司

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