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本申请实施例提供的掩膜装置，涉及显示技术领域。通过全厚区表面与半刻区表面形成的至少部分弧形导流通道可以对半刻区中易积留液体位置处的液体进行导流，可以使液体自由流动不会积留在固定某处，便于通过风吹处理将清洗掩膜装置后残留的药液排出掩膜装置，使药液不会残留在半刻区内。从而避免采用掩膜装置蒸镀发光层的发光材料时，残留在半刻区内的药液混入到发光材料中，导致蒸镀形成的发光层的发光特性因药液的混入受影响。保证采用该掩膜装置蒸镀发光层的OLED显示装置不会出现因蒸镀工艺中药液混入发光材料而导致的显示异常。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112921270 B
(45)授权公告日 2022.07.22
(21)申请号 202110100890.3 (56)对比文件
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