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本发明提供了磁控溅射镀膜机,包括依次连接的第一预备组、工艺室组和第二预备组,第一预备组、工艺室组和第二预备组依次连接成直线型的基片运行路径,所述运行路径的运行方向为基片依次经过第一预备组、工艺室组和第二预备组,工艺室组包括多个工艺室,第一预备组包括多个功能室,沿着所述运行路径的方向,第一预备组的多个功能室的容积逐渐增大,第二预备组包括多个功能室,沿着所述运行路径的方向,第二预备组的多个功能室的容积逐渐减小。本发明低了抽真空能耗,降低了所述镀膜机的加工成本,适应了基片架的运行需求,将所述流水线型的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112981339 A
(43)申请公布日 2021.06.18
(21)申请号 201911276412.7
(22)申请日 2019.12.12
(71)申请人 湘潭宏大真空技术股份有限公司
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