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本发明属于超导体技术领域，具体涉及一种金属基超导带材及其制备方法。一种金属基超导带材的制备方法，包括如下步骤：1)采用脉冲激光沉积方法在所述金属基带表面形成薄膜：在脉冲激光沉积方法中，采用Fe(1‑x)SeyTe(1‑y)靶材或Fe(1+x)SeyTe(1‑y)靶材，其中0≤x≤0.1，0.1≤y≤0.9；2)将所述薄膜利用磁控溅射法在表面沉积保护层。利用本发明方法可以快速、连续制备出铁基超导带材，制备得到的超导带材具有良好的C轴取向、光滑的表面、高超导转变温度和高临界电流密度。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112981326 B
(45)授权公告日 2022.07.26
(21)申请号 202110184996.6 C23C 14/35 (2006.01)
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